Diseñadora peruana presentó “Too much information for Epson” y “Nasca” en la edición primavera-verano 2018.
La diseñadora de moda Ana María Guiulfo llenó la pasarela de color, energía y glamour al presentar su colección cápsula “Too Much Information for Epson”, la cual se caracteriza por ser divertida y fácil de adecuar a cualquier figura.
La propuesta que Ana María creó como ganadora del premio Epson obtenido durante el LIF Week otoño-invierno 2017, estuvo compuesta por diez piezas (vestidos, pantalones, sacos, blusas, faldas y shorts, con una predominante influencia de colores andinos) que conquistaron la pasarela de LIF Week primavera-verano 2018.
La diseñadora llevará su colección al Epson Digital Couture 2018, en Nueva York, la cual fue trabajada con la técnica de sublimación textil. Esta técnica consiste en estampar diseños a color sobre el tejido con ayuda de una impresora especial. Ana María fue la pionera en trabajar la sublimación textil en el Perú.
Ana María, diseñó y confeccionó la colección cápsula en impresoras Surecolor Serie F de Epson, lo cual brindó una representación visual del impacto que tiene la tecnología de impresión digital en la moda y en la industria textil.
Por otro lado, durante el último día de LIF Week, la diseñadora presentó Nasca, inspirada en la exposición que el MALI inauguró este año sobre la mencionada cultura prehispánica. A diferencia de “Too much information” for Epson, los colores de esta propuesta hacen alusión al desierto, las dunas, y el color de las puestas de sol de Nasca.
